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礦物顏料在攪拌式砂磨機(jī)研磨分析_研磨材料生產(chǎn)廠家
2021-06-11
在攪拌式砂磨機(jī)研磨鐵黃顏料時(shí)，采用的分散劑為自制的PMV的皂化產(chǎn)物。討論了分散劑用量、研磨時(shí)間、漿料磨料比對(duì)鐵黃顏料粒徑的影響，并通過粒徑測(cè)試討論了分散劑穩(wěn)定性和研磨時(shí)間對(duì)顏料溶液Zeta電位的影響。
研磨時(shí)間對(duì)平均粒徑及溶液Zeta電位的影響
圖3．7中為顏料用量為2 g，分散劑為自制的醋酸乙烯酯一馬來酸酐共聚物的皂化產(chǎn)物，用量為0．3 g，加入的蒸餾水為60 mL，研磨介質(zhì)為直徑是2 mm和O．5 mm的鋯珠按質(zhì)量比3：2復(fù)配，在攪拌式砂磨機(jī)中研磨，并討論了研磨時(shí)間對(duì)鐵黃顏料平均粒徑的影響。
由圖3—7可以看出，隨著時(shí)間的延長(zhǎng)，鐵黃顏料顆粒的平均粒徑逐漸降低，同時(shí)Zeta電位也隨著下降，當(dāng)研磨時(shí)間達(dá)到3 h后，鐵黃顏料的平均粒徑小于200 nm，Zeta電位的juedui值靠近40 mv，達(dá)到比較穩(wěn)定的狀態(tài)。Zeta電位是主要的粒子間相互作用力之。具有較高Zeta電位的同電荷號(hào)的顆粒，不論正負(fù)，都將互相排斥。通常來說，正負(fù)電荷符號(hào)都可以形成高Zeta電位，即<-30mV和>+30mV都將視為高Zeta電位。對(duì)于足夠小、低密度足以停留在懸浮液中的分子和顆粒來說，高Zeta電位意味著較高穩(wěn)定性，即溶液或分散液將具有抗凝聚性。隨著研磨時(shí)間的延長(zhǎng)，鐵黃顏料顆粒的粒徑變小，分散劑吸附到顏料顆粒表面，由于靜電位阻一空間位阻作用，使顆粒間難以團(tuán)聚，Zeta電位的juedui值也增大；但是隨著時(shí)間的繼續(xù)增加，由于碰撞的繼續(xù)，一些粒徑過小的顆粒由于表面能過大不穩(wěn)定發(fā)生團(tuán)聚，從而使鐵黃顏料的平均粒徑基本不變。
漿料磨料比對(duì)平均粒徑的影響
圖3．8為顏料用量為2 g，分散劑為自制的醋酸乙烯酯．馬來酸酐共聚物的皂化產(chǎn)物，用量為0．3 g，加入的蒸餾水60mL，研磨時(shí)間為3小時(shí)，研磨介質(zhì)為直徑是2mm和0．5mm的鋯珠按質(zhì)量比3：2復(fù)配在攪拌式砂磨機(jī)中研磨，漿料磨料比指顏料漿液與研磨介質(zhì)質(zhì)量之比，討論了不同漿料磨料比對(duì)鐵黃顏料的平均粒徑的影響。從圖3—8中可以看出，隨著漿料磨料比的增大，顏料顆粒的平均粒徑逐漸增大。這是由于在顏料漿液質(zhì)量不變的前提下，隨著漿料磨料比的減小，所用的研磨介質(zhì)質(zhì)量增多，研磨介質(zhì)的增加使其對(duì)顏料的撞擊力度增大，從而使顏料顆粒的平均粒徑減小。但是當(dāng)漿料磨料比過小時(shí)，研磨介質(zhì)用量過大，研磨介質(zhì)在5000r／min的轉(zhuǎn)速下研磨介質(zhì)無法全部被帶動(dòng)運(yùn)轉(zhuǎn)，導(dǎo)致砂磨機(jī)轉(zhuǎn)子無法正常運(yùn)轉(zhuǎn)，造成砂磨機(jī)損壞。
分散穩(wěn)定性
圖3-9為顏料用量為29，分散劑為PMV皂化產(chǎn)物，用量為0．39，蒸餾水為60mL，研磨時(shí)間為3小時(shí)，漿料磨料比為0．24條件下研磨的顏料。
由圖3-9中可以看出，zui初5天粒徑變化較大，到后來20天內(nèi)基本穩(wěn)定在300nm左右，具有較好的穩(wěn)定性。
正交試驗(yàn)
由以上單因素實(shí)驗(yàn)結(jié)果，我們大概找出了較好的研磨條件。為了進(jìn)一步優(yōu)化反應(yīng)條件，本實(shí)驗(yàn)設(shè)計(jì)了L9(34)正交試驗(yàn)，結(jié)果見表3．6所示：
從表3-6中可以看出，研磨的zui佳條件為A383C3D1。即：馬來酸酐含量為42-31％，皂化度為100％，分散劑用量為0．25(e,／g顏料)，漿料磨料比為O．12。按照zui優(yōu)化條件進(jìn)行實(shí)驗(yàn)，zui終顏料的平均粒徑為89 nm。
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